GEM623 : RDM 2

Objectifs : Approfondir les connaissances sur les sollicitations complexes et étude des critères.

Contenu : Contrainte normale due à la flexion gauche. Comportement au-delà du domaine élastique : analyse limite et contraintes résiduelles dans une membrure droite sollicitée en traction/compression, en torsion et en flexion. Déplacements; réactions de systèmes hyperstatiques. Stabilité des membrures droites : colonne rigide, colonne élastique et poutre-colonne; normes. Facteur de concentration de contrainte. Fatigue : diagramme de la vie en fatigue et diagramme de Goodman modifié, chargement superposé, dommage cumulatif. Joints structuraux : joints boulonnés et joints soudés soumis au cisaillement direct et à la torsion; normes.


GEM622 : CAO – DAO

Objectifs : Maîtriser les outils théoriques et pratiques du dessin assisté par ordinateur

Contenu : Enseignement théorique : Description de courbes planes (comprendre les méthodes d’interpolation : spline, courbes de Bézier, NURBS… et les méthodes d’approximation : méthodes des moindres carrés…) et description  de surfaces (surfaces de Bézier, Coons, B-splines…). Enseignement pratique : A partir de dessins d’ensemble incomplets de mécanismes réels et en utilisant un logiciel de CAO : Améliorer une solution constructive existante. Concevoir chaque élément en 3D, Faire l’assemblage, Faire l’animation du mécanisme


GEM621 : Instrumentation industrielle

Objectifs : Acquisition des notions de base pour l’étude des systèmes et des circuits logiques,  Développement de systèmes logiques d’automatisation industrielle

Contenu : Métrologie des capteurs : place du capteur dans la chaîne d’instrumentation. Vocabulaire associé (étendue de mesure, sensibilité, linéarité, rapidité, grandeurs d’influence). Capteurs résistifs, capacitifs, inductifs, électromagnétiques, piézo-électriques, thermoélectriques, à ultrasons, à effet Hall, interférentiels, optoélectroniques (photorésistance, photodiodes, phototransistors), capteurs numériques. Mesure des grandeurs d’entrée : position, vitesse, accélération, température, pression, débit. Conditionneurs de signaux. TP : Manipulations sur les capteurs de température, débit, pression, niveau, position.


GEM613 : Informatique industrielle

Objectifs : Maîtrise des différentes méthodes de mesure (dispositifs, précision, etc.), Etude et mise en œuvre des capteurs les plus utilisés en industrie

Contenu : Systèmes à microprocesseur, Architecture générale d'un système à microprocesseur, Etude des microprocesseurs de la famille 68000, Organisation de la mémoire, Analyse des différentes interruptions, Programmation en langage assembleur, Automates programmables, Structure des automates programmables, Réseau de Pétri, Langage à relais, Grafcet, Réseaux de transmission de données, Topologies des réseaux de transmission de données, Support de transmission, Contrôle de débit de transmission de données, Réseaux locaux industriels, Protocoles pour réseaux locaux industriels.


GEM612 : MMC 2

Objectifs : Maitriser les notions de mmc avancée en coordonnées non cartésiennes notamment

Contenu : Méthodes énergétiques : énergie de déformation pour les chargements élémentaires; Laboratoires : propriétés mécanique des matériaux, mesure des déformations avec jauges d'extensométrie, techniques photoélastiques, flambement, flexion gauche.


GEM611 : Électrotechnique appliquée

Objectifs : Maîtrise des éléments de base de l’électronique de puissance, étude et choix des composants de puissance

 

Contenu : Introduction à l’électronique de puissance, Composants de puissance de base, Conversion alternative continu, Etude de circuits et de systèmes d’électronique de puissance, Exemples d’applications industrielles